鉬銅合金（MoCu）作為高性能電子封裝材料，其表面處理技術對提升封裝可靠性和使用壽命起著決定性作用。隨著封裝工藝向高密度、小型化、極端環境適應方向發展，此合金的表面處理也將呈現出高精度、多功能、綠色環保的趨勢。
一、MoCu合金表面處理的主要目的
提升可焊性與可鍵合性：原始的鉬銅表面易發生氧化，銅表面在空氣中極易形成氧化銅，影響金屬間連接的可靠性。
改善表面粗糙度：有利于形成更均勻、致密的電鍍層或鍵合層，增強材料與其他界面的結合強度。
提供導電或保護涂層：通過電鍍金、銀、鎳等金屬，增強其電學性能與抗腐蝕能力。
增強封裝氣密性與可靠性：適當的表面處理可有效減少界面微裂紋、氣孔等缺陷，提高整體封裝結構的密封效果和服役壽命。
二、MoCu合金常見的表面處理方法
1. 機械拋光與噴砂處理
機械方式（如拋光、噴砂）常用于初步去除表面氧化物和污物，提高表面平整度與粗糙度控制。噴砂還可以增加表面活性，有利于后續鍍層的附著力，但需控制參數以防止損傷鉬成分。
2. 化學清洗與蝕刻
使用酸性或堿性溶液對鉬銅表面進行蝕刻處理，能有效去除氧化層與雜質。例如，氫氟酸對鉬有一定溶蝕作用，而硝酸或氨水則對銅表面處理效果良好。此步驟有助于后續鍍層的均勻沉積。
3. 電鍍鎳層（Ni）
在鉬銅合金表面鍍上一層中間鎳層是常用的處理方式之一。鎳層可作為良好的附著層，為后續的金、銀等貴金屬電鍍打下基礎。此外，鎳本身也具有一定的防腐蝕與焊接性能，適用于多種封裝工藝需求。
4. 金屬化鍍層（Au, Ag, Pd等）
根據電子器件的要求，鉬銅可進行電鍍或化學鍍金、銀、鈀等貴金屬層，進一步提高其導電性、抗氧化能力和可焊性。例如，金層具有優良的化學惰性和低接觸電阻，適用于高可靠性軍工或航空航天封裝。
5. 等離子體處理或激光表面改性
通過等離子體清洗、離子束轟擊或激光熔覆等先進表面改性技術，可以顯著提升鉬銅合金表面的活性、清潔度或形成納米尺度的微結構，提高界面結合強度，特別適合于精密微電子封裝應用。
