單晶硅作為半導體產業和光伏領域的基礎材料，其質量直接決定了下游產品的性能和效率。鎢坩堝作為單晶硅生長爐中重要的高溫容器，承擔著熔融硅料的承載和熱傳遞作用，其性能優劣對晶體生長過程的穩定性和晶體質量有著決定性影響。然而，其應用面臨多項關鍵技術挑戰，需要從材料性能、工藝控制、設備設計等多方面進行深入研究與攻關。
首先，W坩堝的高溫穩定性與抗腐蝕性能是核心挑戰之一。單晶硅生長過程中的溫度通常在1410℃以上，鎢雖具備極高的熔點，但長時間在如此高溫下工作，鎢制坩堝表面易與熔融硅發生復雜的化學反應，產生鎢硅化物或氧化物層。這些反應不僅削弱了坩堝的結構完整性，還可能導致坩堝材料剝落，造成硅料污染，影響晶體純凈度和性能。如何提高W坩堝的抗腐蝕能力，延緩材料的化學侵蝕，是技術攻關的重點。
其次，W坩堝的熱傳導與熱應力控制也面臨巨大挑戰。鎢具有較高的熱導率，有助于保持熔體溫度的均勻分布，但由于單晶硅生長對溫度梯度極為敏感，任何熱傳導不均都會導致晶體內部應力集中，形成缺陷如晶界或位錯。坩堝壁厚、形狀及其與加熱系統的配合設計需精準優化，以保證熱場的穩定與均勻，減少熱應力引起的材料疲勞和裂紋。此外，鎢坩堝在熱循環過程中需要承受巨大熱應力，如何提高其熱震穩定性，防止熱疲勞裂紋的產生，是延長坩堝壽命的關鍵。
第三，W坩堝的材料純度與制造工藝也是技術難點。高純度鎢材料能夠減少雜質對晶體的影響，同時提升坩堝的機械強度和熱穩定性。但鎢的高熔點和硬脆特性使其加工難度大，制備過程中容易產生微裂紋、孔隙等缺陷，這些缺陷在高溫使用中會成為裂紋源，導致坩堝早期失效。如何實現高致密、高均勻、高精度的鎢坩堝制造，是提升單晶硅生產穩定性的必要條件。
此外，鎢制坩堝的表面處理與保護技術也亟待突破。為了減緩鎢與熔融硅之間的化學反應，業內常采用涂層技術如鉬涂層或陶瓷涂層，但如何確保涂層的附著力、耐熱性及均勻性，避免因涂層剝落引起的局部腐蝕，仍需進一步研究和改進。
